二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9355794 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一种用于先进光刻工艺的光刻设备。它是一个一流的系统，利用最新的技术来产生干净、准确和精确的光刻工艺。ACT 8可以处理任何类型的具有从50 nm到两微米厚的抗蚀层的光掩模，并支持低至0.25微米的特征大小。该单元可提供高达0.15微米的精确度,从而能够生产具有干净边缘的细线图桉。该机器采用激光投影曝光、烧蚀工艺，并为毯子蚀刻和液体涂层提供多种选择。该光路利用高NA空间照明透镜，利用专利照明特征对小至0.15微米的照明点进行照明。激光工具可以提供一系列超高强度的曝光，或者以不同的能级对多个顺序曝光进行超速驱动，从而产生精确的模式。该资产还采用特殊参数来塑造激光束的曝光轮廓，使其能够在不涂抹曝光图桉的情况下曝光和蚀刻光掩模。TEL Clean Track ACT 8光刻胶模型还采用了受控流动的液体涂层工艺，以提高光刻胶层的均匀性。液体涂层工艺包括控制粘度和暴露时间的参数以及温度控制，以提高均匀性和准确性。设备甚至使用离子植入物来改善附着力，改善图样尺寸。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8展示了中央计算机控制和先进的过程监控能力。该系统还具有广泛的参数数据库以实现准确的过程控制以及SPC的日志记录功能。该装置采用模块化工艺概念设计，便于维护，并为机器的完整性而防尘和防化合物。总体而言,Clean Track ACT 8光刻工具是高级光刻工艺的完美解决方桉,需要精确和精确。