二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9382447 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8是半导体製造业中使用的一种最先进的光刻蚀刻工艺设备，用于高保真度的超细图样形成。其主要特点是先进的"Act In/Out"系统，在同一腔室内用两种不同类型的激光处理晶圆表面，与单摄入工艺相比，允许更高的蚀刻均匀性。TEL Clean Track ACT 8单元采用两步蚀刻方法。首先，一种无泵光限制脱氢工艺（LRD）利用聚焦激光蒸发晶圆表面上沉积的杂质。其次，采用低功率直通激光器在极低的温度下将光敏沉积在一个通道中，这种两步过程产生极薄且均匀的光敏图样和高度受控的边缘轮廓，而无需湿法处理。该机还具有高精度的索引，从而产生高保真度的光刻胶放置，这对蚀刻过程至关重要。这是通过使用精密舞台运动控制和集成模式识别算法实现的。该工具还采用了获得专利的"自适应照明模式"，确保光照强度始终在晶圆上均匀，以及"镜面和玻璃"光学器件，即使在极端温度下也能持续聚焦激光并保持图像分辨率。此外,该资产还具有优化的光刻蚀刻工艺.此过程使用双模拟器工作站而不是单个应用程序,以实现最大的均匀性和高分辨率成像。最后，TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8配备了精密的软件，跟踪所有参数和工艺，以实现极精确的蚀刻和优异的产量。综上所述，Clean Track ACT 8是一种下一代光刻蚀刻工艺模型，旨在实现极精确的图桉形成和超精细边缘的高精度。它采用了一个蒸发污染物、一次应用光刻胶的两级工艺，并具有先进的激光操纵系统、独特的"自适应照明模式"和强大的软件平台，对蚀刻工艺进行精确控制。