二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9383672 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一款设计用于半导体工业的自动化光刻设备。该系统用于在半导体材料中精确蚀刻图样。该单元由多个组件组成,这些组件共同操作光刻胶材料。第一个元件是光电子掩模对准器（Photoelectron Mask Aligner，PMA），负责将所需的图桉精确地放置在晶圆材料上。然后,PMA使用紫外线（UV）将图样传递到光刻胶上。这一步叫做'暴露'。第二个成分是化学加工站，负责除去光刻胶的暴露部分。这一步通常是通过在光致抗蚀剂上应用水基碱性溶液来完成的。这一过程被称为"发展"。第三个组分是自旋干燥器，用于在发育步骤后对材料进行干燥。此步骤可确保正确执行下一步蚀刻。第四个组件是蚀刻器，用于将所需的图桉蚀刻到材料中。根据要蚀刻的材料,这可以通过干蚀刻、湿蚀刻或等离子体蚀刻来完成。第五个元件是一个升降站，负责从蚀刻图桉中除去剩余的光刻胶。这通常是用一种化学升降剂来完成的，这种化学升降剂会破坏光致抗蚀剂和材料之间的化学键。第六个组件是一个对齐标记检查（AMI）站，用于检查蚀刻图桉的对齐精度。这样可以确保蚀刻的图桉符合设计规范。第七个成分是一个清洁站，用于从晶片材料中去除任何残留的光刻胶、化学剂或颗粒。这有助于确保半导体不受污染。最后，第八个部件是一个运输站，负责将晶圆材料移动到过程中的下一步。TEL Clean Track ACT 8是半导体制造过程中必不可少的组成部分，因为它能够精确准确地制造半导体材料。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8通过将PMA、化学加工站、自旋干燥机、蚀刻机、升降站、AMI、清洁站、运输站组合成单机，简化了半导体材料的制造工艺。