二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #9218786 待售

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ID: 9218786
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Coater / Developer system, 12" Multi block Track config 1: (3) Coat cups (3) Barc cups (3) Top coat cups (6) Developer cups (3) CADH Track config 2: Resist reduction: SRRC Dev nozzle1: GP Dev nozzle2: LD Resist pump: CRD 3ml Bevel rinse: Ver 2 Oven config: PEB: (4) CPHP BCT: (5) CGHA COT: (4) CGHP ITC: (4) CGHA Post bake: (4) CLHA Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73, LA95 FIRM: SPC-116A Block diagrams 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro是一款先进的光刻设备,设计用于在各种基材上执行高度控制和精确的光刻工艺。光刻,又称光掩模技术,是利用光在两种独立的材料之间传递图样的方法。Lithius Pro由于其对光和化学物质的高灵敏度,能够为广泛的光掩码应用提供卓越的精度。它是一个同时使用SynchroScan和AsyncScan光掩码技术的系统,可同时提供高速掩码结构的扫描和处理功能。Lithius Pro设计用于多种光刻材料,包括正涂层、负涂层和自旋涂层。光致抗蚀剂是一种感光材料的薄膜,它被施加在一种基板上,例如硅片基板,以便形成该材料的图样。结合AsyncScan和SynchroScan光掩码技术,Lithius Pro提供了最佳的模式维护和高长宽比精度。该单元具有为光掩模和光刻胶应用而设计的多项高级功能,如动态扫描速度控制机、自动调音和精确的焦点检测工具。Lithius Pro通过内置程序(如校准向导),提供了简单、精确的设置过程,该程序简化了校准和校准,以实现最高的准确性和可重复性。它还提供了多种标准和特殊的清洁协议,如真空夹紧清洁模式,以及用于去除油脂、灰尘和其他污染的变温清洁模式。内置的检查能力允许重复和统一的检查结果。这些功能使Lithius Pro成为用于精确光掩模和光刻胶应用的强大工具。它能够在广泛的基板上执行复杂的阵列,并具有可重复的结果。该资产的设计易于安装,并提供直观的控制以及广泛的生产效率和安全功能,使其成为需要光刻系统提供高精度和高效率的用户的理想选择。
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