二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #293595689 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293595689
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Coater / Developer system, 12"
In-line with CANON ES6
(4) Loaders
TEL Photoresist processing system
FOUP Carrier station: 4 Side loading
(2) Process station blocks
Wafer edge with inline thickness measurement system
CAR Capable
DEV Solution supply system
FIRM Supply system
NH3 Monitor ports specification
CANON Interface station
Online communication (GJG)
S2-0302 Safety compliance
(3) P.Resist coater units
(2) BARC Resist coater units
(5) Developer units
LD Nozzle
(3) Adhesion process units
(6) Chill Plates (CPL)
(2) Water Controlled Chilling Plates (WCPL)
(5) Chilling Low Temperature Hot Plates (CLHP)
(10) Chilling High Precision Hot Plates (CPHP)
(2) External chemical cabinets
T and H controller cup
AC Power box
HPT Pump:
(4) Nozzles per cup
(6) Nozzles per cup
Direct drain:
COT
BCT
DEV
Solvent supply system:
COT
BCT Unit
Power supply: 208 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款光刻设备，旨在改善半导体制造中集成电路的生产。该系统由两个组件组成，当串联使用时，可实现更清洁、更准确的微电路开发。该单元由Lithius清洁剂和Clean Track腔室组成，这两个组件均由TEL设计。锂清洁剂使用溶剂剥去晶圆表面的杂质和残留物。这使得光刻胶能够在晶片上进行清洁和精确的处理。当使用清洁剂时，它与污染物结合，在一个应用程序中去除它们。虽然锂能够清洗多种残留物，但它适用于大多数光致抗蚀剂系统，包括TOKYO ELECTRON开发的那些。清洁履带室是一个密封室，有一个独特的晶圆架。晶片放在密封空间的支架上，用于引入锂清洁剂。然后将晶片暴露在紫外线下，从而催化光刻光刻机的清理过程。这种情况发生在一个封闭的空间，防止环境污染，如灰尘和湿度，这可能会阻碍发展进程。锂清洁剂和清洁履带室的联合应用使详细的结构能够安全和有效地加工成晶片。这允许在制造集成电路时提高集成级别和准确性,并提高产量和吞吐量。总之，TEL Clean Track Lithius是一种高效高效的光刻工具，非常适合集成电路的制造。清洁履带室的固有清洁环境以及快速清理溶剂可实现详细、准确的结构处理,提高广泛应用的产量和吞吐量。
还没有评论