二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9227626 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Lithius （CTL）是一款专用的光阻设备,旨在提供可靠、高性能的光阻阵列解决方桉,具有灵活性和可扩展性,以满足新兴技术的需求。CTL系统提供了一系列的光刻、蚀刻和表面处理功能,可在各种基板上快速完成光刻反转和微加工过程。CTL单元支持各种常规和先进的光致抗蚀剂材料，如正向、负向和高级硅烷化和纳米颗粒抗蚀剂，使客户能够根据自己的特定应用需求选择最佳的抗蚀剂机器。CTL还能够自动控制多个过程，包括暴露、速度、气流以及每种特定类型的抗蚀剂的参数。这使用户无需人工干预即可实现在线原型生产或快速多层流程开发。CTL工具的主要组成部分包括一个带有8英寸FPD基板支架的集成工作站、一个具有各种照明源的6英寸曝光平台、一个具有多达9个同时蚀刻或沉积源的蚀刻模块以及一个便于基板垂直运输的直通资产。曝光平台拥有45 x 25平方英寸的成像场，提供线宽低至0.2微米的阵列设备的能力。CTL模型还包括一个配备了软光刻能力、真空表面处理和等离子体蚀刻功能的先进平台。CTL设备配备了自动化的物料处理系统和高速处理能力。CTL系统的自动化旨在显着减少等待时间和用户关联的流程步骤,从而使用户能够快速、高效地制作原型并处理各种材料。使用CTL单元,用户可以轻松执行精确的光掩码设计和生产过程,以及精确的沉积端点,一致的抗蚀性轮廓控制,以及改进的抗蚀性覆盖对齐精度。CTL机器还支持全局介电蚀刻选择性和精确蚀刻轮廓，使用户能够以最短的时间和成本在几种基板和技术上实现设备模式。CTL工具非常可靠,需要最少的维护,使用户能够在资产的整个生命周期中实现一致、可预测的流程结果。该模型紧凑且具有成本效益,旨在与其他处理工具集成,以实现全自动生产过程。TEL CTL具有高性能和自动化功能,是满足工业和研究光刻胶加工需求的理想解决方桉。