二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267420 待售
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ID: 9267420
晶圆大小: 12"
System, 12"
Cassette stage block
SMC Thermo-Con block
Plate stacks
Coat develop module
AC Power box
Miscellaneous panels.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款光刻设备，其特点是能够降低光刻工艺的尺寸和复杂性，提高清洁工艺的清洁度和生产率。TEL Clean Track Lithius系统是一种模块化和模块化的技术解决方桉,用于掩蔽/蚀刻和清洁技术。适用于量产和限量加工。该装置具有超短波长光源，可实现高分辨率的光掩模图样，并提高清洁性能。这也可以开发更高分辨率的蒙版/放置图桉,并减少图桉的最小间距。通过使用低维图桉（2至4种颜色）优化图桉布局。与传统的抗蚀剂处理技术相比，光致抗蚀剂层是单步应用的，从而提高了吞吐量并降低了复杂性。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius也将一台先进的清洁机融入到模式化过程中。清洁工具结合了湿式化学和干式颗粒清洗工艺。湿蚀刻工艺利用高压（1.7至3.5 mPa）化学溶液，从基材中去除光敏材料。干粒清洗过程使用各种尺寸的颗粒，从基材中去除任何残留的光致抗蚀剂。这两种清洁工艺的结合可以实现更高的吞吐量和更清洁的光刻胶图桉。Clean Track Lithius还提供了用于检查和过程监控的在线监控资产。模型测量抵抗材料的光强度，并使用施加的光强度在光强度在可接受范围之外时生成警告信号。该设备还可用于测量加工过的基板的清洁度，使工程师能够在光刻胶应用过程前识别任何清洁缺陷。此外，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius还结合了智能表壳处理（ICH），用于快速精确的图样放置。ICH利用多轴定位分析仪来识别图样绘制过程中基板的准确位置。由此产生的模式放置是统一和精确的，从而实现更高的产量率和更大的过程稳定性。总之，TEL Clean Track Lithius photoresists system是一种先进、先进的光掩模和蚀刻图桉技术解决方桉。该装置旨在减少平版印刷工艺的尺寸和复杂性，同时提高清洁工艺的清洁度和生产率。总体结果是产量提高，吞吐量提高，均匀性提高，工艺稳定性提高。
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