二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267953 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
已售出
ID: 9267953
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
(2) Coater / (3) Developer system, 12"
Mainframe with controller
(4) FOUPS and Carrier station
SHINWA T&H-ME-1-1AZAZAZ-01 Temperature and humidity controller
SMC INR-244-260A-2 Temperature Controller Unit (TCU)
Coater unit (2-1, 2-2):
(10) Dispense nozzles
With temperature controlled line: HPT 106-2 Pump
PR Suck-back valve type: (20) AMC Suck-back valve
Degasing system for solvent (PCS Pumps)
Programmable side rinse:
PR Nozzle: (10) Bottles
Solvent 1 supply: CCSS
Solvent 2 supply: Local canister tank 1 and 2
Photo resist temperature control system
Direct drain type
Developer unit:
NLD Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
Degasing system for developer (PCS Pumps)
Developer supply: CCSS
DIW Supply: CCSS
Developer temperature control system
Direct drain type
Chemical cabinets:
COAT Cabinet
2-DEV Cabinets
AC Power box: 200 / 220 V
Full-load current: 152 Amps
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是为生产光刻胶而设计的最先进的半导体晶圆加工设备。该系统结合了先进的清洁工艺和高精度的光敏沉积装置，可以按需生产出质量最高的产品。TEL Clean Track Lithius有一对机械臂在清洁和沉积阶段之间移动晶片。机器的集成清洁过程使用纯水添加剂和氧气提供完全清洁的晶片，没有有机和无机污染物。沉积工具由一对超高密度、等离子体增强的气相沉积枪组成，将化合物热汽化冷凝到晶圆表面上，使光刻胶图样具有极好的均匀性和可重复性。该资产在工艺室的顶部和底部配置了两条独立的输送机轨道来管理晶圆，每小时最多可处理300个200 mm晶圆。专有的TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius软件套件允许在晶圆处理过程中完全控制模型参数，包括保存配方并即时修改的能力。通过其硬件和软件，该设备能够在整个晶片表面实现+/-0.9 µm的沉积均匀性。该系统具有自动诊断功能,可实时检测和纠正任何过程异常。除了出色的工艺控制能力外，Clean Track Lithius还具备多种安全功能，以保护设备免受污染和操作错误。该机装有多个金属防污挡板和空气窗帘，以尽量减少颗粒泄漏到加工室内。它还采用了多路复用的进水泵结构，以确保过程中使用的气体不含可能对晶圆有害的碳氢化合物。最后，该工具配备了工具专用的安全电路检查，以确保资产得到正确操作。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是精密大体积光刻沉积的理想工具。它专为24/7运营而设计，目前安装在世界各地的各种实验室和生产设施中。该模型效率高，设计用于多年的可靠操作，允许用户快速处理光刻胶，提高晶圆产量和盈利能力。
还没有评论