二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9275996 待售
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ID: 9275996
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Resist coater / Developer system, 12"
Multi block
Track 1:
(2) Coater cups
(2) BCT cups
(4) Developer cups
Track 2:
Resist reduction: RRC
Dev nozzle: LD Nozzle
Resist pump: RDS 4ml
Oven:
Dehyde bake: (4) CLHP
COT: (9) CPHP
PEB: (6) CPHP
Post bake: (5) CLHP
(2) ADH
Track chemicals:
Resist supply: Gallon bottle
Thinner: OK73, LA95
Does not include HDD
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一种用于半导体工业的光刻设备，用于在晶圆上制作精细蚀刻图桉。它是市场上最先进的光刻胶技术之一。该系统利用复杂的光控制和图样机构，使晶圆的表面能够精确蚀刻。第一步是在晶片表面上涂上一层薄薄的正音光刻胶。光致抗蚀剂随后被暴露在高强度的紫外线光源下，根据所需的图样有选择地调制光致抗蚀剂的曝光。然后将此图样传输到晶圆表面,并准备进行蚀刻过程。TEL Clean Track Lithius单元附有精密的光控制功能，如激光LDI（laser Direct Imaging）光学器件、八通道步进运动控制装置，以及一台用于均匀曝光光刻胶的快速反馈机。如果需要,用户还可以选择切换到接触曝光选项。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius采用的先进光刻胶技术也使得该工具适合于多种光刻胶去除工艺。这允许用户同时在晶片上印上几个精细的蚀刻细节。该资产还提供各种不同的光刻胶品种，从而可以实现更量身定制的蚀刻图样。Clean Track Lithius光致抗蚀剂模型是寻求高效、精确、管理良好的蚀刻工艺的半导体制造商的绝佳选择。其精密的特性、用户友好的操作和可靠性，使其成为许多行业所需的光刻设备。
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