二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375513 待售
网址复制成功!
ID: 9375513
优质的: 2005
System
Single block
Stand alone system
(2) Coat cups
(3) Developer cups
ADH
Resist reduction: RRC
Developer nozzle: SH, NLD
Resist pump: RDS 10ml, CRD 4ml
Ovens:
(2) Coat: CPHP
(2) Developer: CPHP
Track chemicals:
Resist supply: Gallon bottle
Thinner: OK73
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款设计用于半导体和电子制造的光阻设备。该系统利用先进的抗蚀剂工艺,在晶片和其他基材上沉积光聚合物光致抗蚀剂,并对其进行图桉化。Lithius单元具有多种特性,使其成为要求苛刻的半导体工艺中的一个有吸引力的选择,在这种工艺中,光致抗蚀剂沉积的精确对准和均匀性至关重要。机器的正面曝光室提供沿其整个宽度的均匀且控制良好的抵抗暴露,沿整个晶片提供高质量的图桉。所使用的投影光学器件可确保抗蚀剂成像在晶片的中心与边缘之间保持一致,且表面移动均匀,且无遗漏或未对齐的图桉。除了性能优越的光学外,Lithius工具的另一个主要元素是其先进的抗蚀剂处理。提供自动对焦控制和三点对准等功能,以确保所有接触点都干净并处于适当位置,从而实现准确的沉积和图样化。采用的三点对准技术也保证了正确的抗蚀剂施用量,涂层既一致又均匀。此外,TEL Clean Track Lithius还配备了一套集成的安全功能和选项。这包括主动和被动ESD保护、静态中和特性和大气监测设备。这些功能有助于确保整个过程中用户和组件的安全。所有这些功能协同工作,以最小的努力为TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius资产的用户提供高度准确和一致的结果。其优越的性能和安全特性使其成为半导体工业中要求苛刻和高精度光刻工艺的首选模型。
还没有评论