二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9375518 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius
ID: 9375518
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
System, 12" Multi block (4) FOUP (25 wafers) Left to right High speed IBFM (4) Coat modules RGEN02 Pumps (4ml type) (7) Resist nozzles Resist temp control Top side EBR RRC PRE Wet (4) Develop modules SH Nozzle Top side rinse Develop temp control (2) ADH (4) HCP (High speed CPL) (4) Low Hot Plate (LHP) (9) Chilling High Precision Hot Plate (CPHP) (2) Water Chilling Plate (WCPL) IHCP Cup Wash Holder (CWH) BWEE (2) TRS (2) Cup T&H Control units Chemical box ASML Interface HDD Not included 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款为先进的半导体光刻工艺而设计的光刻设备。它是业界首个"NO HOOD"系统,在不影响性能的前提下最大化洁净室空间。该单元采用了专有的真空卡盘技术,提供了优越的非接触式真空晶片保持和提高对准精度。TEL Clean Track Lithius支持完整的SAED步骤和重复、3D缝合以及覆盖对齐对齐器。它还提供了改进的多项目晶圆处理功能,减少了粒子数量,以及对齐器的停滞时间消除。此外,这台机器大大减少了装卸周期的时间。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius支援各种光刻胶进行光刻图桉。其中包括分辨率优于0.25微米的深亚微米(DSM)抗蚀剂,以及具有亚微米分辨率的高长宽比(HAR)抗蚀剂和热兼容性抗蚀剂(TCR)。一旦选择了抗蚀剂,Clean Track Lithius将为该过程准备一个独特的集成计划。此计划与专有的光刻胶配方数据库协同工作,为每一层创建最佳的作业配方。它还与原位等离子体后烘烤和直接手柄晶片传递相关,以实现最大的晶片到晶片的可重复性。最后,利用集成的分选功能改进了模式匹配.TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius可以同时管理批处理和连续处理。它还可以将多层集成到单个作业中,以提高图像连续性。最后,该工具提供了内置的过程监控和晶圆质量控制,确保了一致的、可重复的结果。TEL Clean Track Lithius是用于先进半导体光刻工艺的可靠、易于使用的解决方桉。其专有的真空卡盘技术、内置的过程监控功能以及全面的集成计划使其成为精确阵列需求的理想选择。
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