二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 5z #9198153 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 5z是一种用于生产微电子器件的光刻设备。它以提供优越的粒子和静电放电效果的行业领先能力以及优越的洁净室和工厂产量而闻名。Mark 5z是生产集成电路（IC）、OLED、LED和其他需要极端清洁的设备中必不可少的工具。光刻胶系统由两个主要组件组成：激光曝光单元和溶液曝光机。激光曝光工具使用聚焦激光量子精确投射光图样的基板上已经涂有感光材料。通过仔细调整光强度和图样，材料就会暴露出来，转化成光刻胶层。然后在化学蚀刻过程中将光刻胶层用作蚀刻面膜，用于生产微电子器件的组件。基于溶液的曝光资产将底物精确地浸泡在含有感光化学品的液体中。这些化学物质对特定的光强度产生反应，产生所需形状的光致抗蚀层。该曝光模型适用于激光设备无法精确曝光的微观结构。Mark 5z使用三个不同的阶段，以确保光刻胶工艺的最高产量和可靠性。该工艺的第一阶段包括预处理，在预处理中，为光致抗蚀剂的应用制备基材。这包括去除表面污染物、冲洗、加热干燥和金属沉积，所有这些都有助于确保光致抗蚀剂均匀牢固地粘附。第二阶段是光致抗蚀剂层构造，在此期间使用激光和溶液曝光系统。在这一阶段，基板要么喷涂光致抗蚀剂材料，要么暴露在激光或液体中。这创造了对所提供设计的精确复制，允许高度精确地制造复杂的微电子结构。该过程的第三个阶段是发展阶段，在此期间，过量的化学物质通过烘烤模式来提升和去除光致抗蚀层。然后使用多种技术清除有害材料。一旦开发过程完成，基板就准备好进一步加工和使用。总体而言，TEL CleanTrackMark 5z是一种可靠的光阻系统，能够产生高产和元件完美。它用于许多行业，以满足当今日益精密的微电子器件的需求。