二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 / Mark 8 #293656061 待售

TEL Clean Track Mark 7和Mark 8系统是用于半导体集成电路加工和制造的先进光阻系统。这些系统提供光致抗蚀剂处理，涵盖了显微光刻和曝光后蚀刻过程。在微光刻水平上，光被用于生产半导体器件。该光指向光刻胶层以创建遮罩图桉。设备使用先进的光学元件和软件，为高性能光刻精确提供必要的分辨率和光强度。在曝光后蚀刻级别，被曝光的光刻胶层用形成图样的蚀刻剂处理。然后使用先进的设备，如直流氧等离子体和O2反应性蚀刻器，很容易除去光致抗蚀剂。Clean Track Mark 7和Mark 8系统旨在提供高精度和低排泄率。来自TOKYO ELECTRON的最新单元Clean Track Mark 8系统的分辨率比Mark 7更高。它还采用了机载微粒除雾器等创新技术进行超洁净操作。这有助于防止机器中组件损坏和退化,从而提高吞吐量和产品质量。Clean Track Mark 7和Mark 8系统采用先进的控制和自动化工具,用于光阻处理。ProSysWafer等软件组件使用户能够从任何位置远程监视整个生产过程。此外,该工具还提供统计过程控制（SPC）选项,为光刻胶处理过程提供有价值的见解。再者，该资产设计为在生产过程中抵御环境的变化，使其适合在清洁间、标准环境、真空等各类生产环境中使用。该型号还具有自我诊断和预防性维护警报等方便的维护功能。最后，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7和Mark 8系统为半导体制造提供了先进的光刻胶加工选项。这些系统具有先进的光学元件、软件和蚀刻技术,使它们能够提供卓越的分辨率和精确度,而且排便率低。此外,该设备还具有自动化和控制工具,即使在要求苛刻的生产环境中使用也非常可靠。