二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 / Mark 8 #9158032 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 / Mark 8
ID: 9158032
晶圆大小: 4"-12"
Coater / Developer system, 4"-12" Either silicon wafer substrate or LED sapphire substrate Windows GUI scheduler software with Up to date indutrial PC controller High speed SATA SSD storage system with RAID feature Wafer level recipe processing and command Real time process log Online communication (SECS/GEM) Group monitoring Either uni-cassette (open cassette) or SMIF (3 SUCs or 4 SUCs) Integrated CSB Wafer flow modification (Left to right or Right to left) Step / Scanner interface modification (ASML, Nikon, Canon, SVGL) Integrated photo resist dispense monitoring system Integrated chemical dispense monitoring system.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7/Mark 8是一种光刻设备,拥有先进的步进技术来制造半导体器件。它是一个全自动的精密光刻系统,能够将非常详细的图样转移到硅片上。Mark 7/8光阻装置具有大幅面扫描仪和均匀频率扫描等功能,可实现均匀成像、长波长曝光以及快速而优越的覆盖。Mark 7/8具有高精度、高速度、高可靠性的清洁履带舞台。它配备了一个由直接驱动伺服电动机驱动的精密级,能够在晶圆的所有表面实现均匀的成像曝光。机器有一个集成的线性编码器,提供精确的实时位置反馈,不需要外部激光干涉仪或编码器。此外,先进的跟踪控制器有助于降低背景噪声水平和高速行驶。Mark 7/8还配备了由高分辨率镜头和马达组成的光学工具,具有精确的定位控制,可精确控制曝光光束的足迹。这种能力使光刻胶资产能够产生极高分辨率的成像,具有优越的聚焦深度和一致的图样。此外,光学子系统减少了杂光和眩光的数量,从而限制了竞争光敏系统的性能。Mark 7/8的设计也是为了最大限度地提高空间效率,从而最大限度地利用现有或新的车间空间。为便于满足这一要求,光刻胶模型采用了流线型、坚固耐用且紧凑的布局,占地面积很小,经过优化,适合适当的车间。总体而言,TEL Clean Track Mark 7/Mark 8是一款可靠的光阻设备,旨在以最高的速度和准确性产生卓越的成像效果,同时又不牺牲工作区效率。该系统具有高性能光学和跟踪伺服电机,非常适合在具有挑战性的工作环境中创建高级半导体器件。
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