二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293632604 待售
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ID: 293632604
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Single block
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7光刻胶设备是光刻的高端技术，用于生产高端电子产品。广泛用于制造半导体集成电路（IC）和印刷电路板（PCB）。TEL Clean Track Mark 7系统提供最先进的功能,以确保光掩模的清洁高效生产。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7提供多区域、多图案曝光工艺和防反射涂层等高级功能。这使得该单元产生的光掩码更加精确、可预测和一致。这台机器还采用了一种高端的"超场"技术，这种技术提供了最大的光照均匀性。这确保了整个光掩模的精确和均匀曝光。"超场"技术还允许在晶圆上直接曝光，用于其他应用，如曝光后烘烤（PEB）解决方桉。资产还有一个内置的数据传输模型，用于与主机系统通信。此功能允许从设备快速下载和分析数据。Clean Track Mark 7光刻胶系统还具有集成温度控制、快门致动等多项先进的自动化功能。这允许精确和精确地控制曝光时间,并允许在整个曝光过程中精确跟踪产品。这种自动化功能对于降低与光刻生产有关的间接费用至关重要。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7光抗蚀剂单元也提供了先进的保护功能。其中包括隔振机、静态/动态保护、空气过滤和故障隔离。这些功能允许在曝光过程中更好地保护工具的组件,并确保资产保持良好的运行状态。总体而言，TEL Clean Track Mark 7光刻胶模型是生产高精度可靠光掩模的宝贵技术。它提供高级功能和自动化功能,能够高效生产复杂电路。该设备非常适合用于半导体和多氯联苯工业。
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