二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293641936 待售
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ID: 293641936
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7是为制造先进微电子器件而设计的光刻设备。该系统具有高精度的光束聚焦和对准单元室，允许工人在原子级进行逐项作业处理。TEL Clean Track Mark 7包括两个阶段：对齐室和基板加工阶段。对准室的特点是具有两个透镜的光束偏转机，这些透镜用于对准光束，从而将光对准正在处理的基板上的精确点。这样可以确保每个作业都有非常准确和可重复的结果。基板加工阶段包括一个装有各种气体的真空室，以清洁和清除可能污染基板的危险颗粒和空气污染物。TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 7在控制软件的帮助下能够达到1 µm的分辨率。这是可调的，可以调整以满足不同的流程。该工具还具有一系列高级功能,可用于调整梁的焦点、大小和形状。这使用户能够在非常短的时间内以非常高的精度优化流程。此外，Clean Track Mark 7资产采用了一种正在申请专利的创新辐照方法，可以提高信号强度和信号同质性。这通过减少表面缺陷提高了设备的分辨率，并确保了一致的高质量晶片蚀刻。该模型还采用了一系列诊断工具，如晶片蚀刻试验、光致抗蚀剂清洗试验、电子束模拟、自动配方控制等等。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一款先进的光刻设备，旨在提供最高品质的晶圆蚀刻和光掩模处理。凭借其高分辨率、控制软件和各种高级功能，工人能够可靠地、准确地完成要求高精度的工作。
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