二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293746058 待售
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ID: 293746058
晶圆大小: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Wafer flow: Right to left
Single block.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一款由TEL Ltd开发的光刻胶设备。该系统旨在供机器操作员用于高密度集成电路(HDIC)和高宽高比(HAR)设备的精确处理和维修。这种先进的光致抗蚀剂装置旨在减少基板损坏,并且在用于敏感设备改装时提供类似光刻的精度。该机由沉积站、模式工程站、评估站组成。沉积站允许光敏材料以高精度沉积在基板上。模式工程站允许在基板上创建高精度的模式,而评估站则允许评估已沉积的模式。TEL Clean Track Mark 7光刻胶工具使用专利涂层工艺,其中包括独特的预处理阶段。在这一阶段,用氧基等离子体处理底物,以去除污染物和氧化层,这可以降低沉积光致抗蚀剂的质量。预处理阶段还确保光刻胶与基板的有效粘附。光敏资产还具有高质量的成像模型,包括数字图像传感器、高精度光学透镜和专有的图像处理算法。这台设备采用尖端技术,为成像过程提供更高的分辨率,允许对图样形成进行精确的控制。TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7光抗蚀剂系统还具有自动图样校正技术,允许调整抗蚀剂图样的大小、形状和/或方向。这一特性允许产生非常精确的图样,可以实现紧密的公差和高产率。此外,这种光致抗蚀剂装置还配备了除粒机,有助于减少光致抗蚀剂中的颗粒污染。该工具帮助光刻胶资产保持清洁,并允许形成高精度的抗蚀剂图桉。综上所述,Clean Track Mark 7光刻胶模型是处理和维修HDIC和HAR设备的先进解决方桉。专利涂层工艺和自动图样校正技术允许形成精确和精确的抗蚀剂图样,而成像设备和颗粒去除系统则有助于确保清洁度和准确性。
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