二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9158020 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是最新一代的光刻胶系统，旨在满足最新的半导体製造及加工需求。该设备具有先进的功能,可提供卓越的功能和性能。TEL Clean Track Mark 7使用了直接驱动无掩模曝光（DME）技术,该技术允许在光刻胶层等基板上进行更好的图样绘制。利用这项技术,光学系统根据计算机辅助设计（CAD）数据而不是使用光掩码来显示基板。这种方法不需要额外的清洁空间来制作口罩，节省时间和金钱。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7还具有Active Pattern Precision （APP）调谐功能。此功能允许在高分辨率细节（如LWR（线宽粗糙度）最重要的光刻石层上进行更好的阵列控制。APP有助于将LWR保持在5nm以内,使其非常适合必须达到精度级别的流程。除了DME和APP之外,Clean Track Mark 7还包括一个基板移动单元。这允许基板在X、Y和Z方向上移动,并且倾斜方向可达到30度偏移。这台机器允许多种基材尺寸和形状，所有的调整和对准都可以快速准确地完成，节省时间和金钱。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7还拥有一系列最先进的清洁功能。这个工具使用了专利的Aerospray清洁操作，这有助于减少粒子散射的同时清洁光刻胶。它还提供了一种利用类似DI的水的专有湿清洗工艺，这有助于最大限度地减少因强化学物质引起的表面腐蚀。TEL Clean Track Mark 7还配备了预对齐资产,通过从CAD源数据测量每个模具的长度、宽度和面积,有助于最大程度地提高对齐精度。该模型还有助于减少模具放置过程中所需的体力劳动，减少手动检查和优化的需要。综上所述，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7设备提供了半导体行业在光刻胶系统中的最高性能和最先进的特性。其直接驱动无掩模曝光技术、主动模式精密调整功能、基板移动系统以及一系列清洁功能,通过快速的设置和操作提供了卓越的精度。