二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9158027 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 7是一种用于制造集成电路（ICs）的光刻胶设备。该系统的工作原理是将IC基板暴露于UV光源，在UV光落下的地方雾化光致抗蚀剂。该单元用于创建多种不同类型的IC，包括数字逻辑、模拟器件和应用特定集成电路（ASIC）。该机由光刻胶供应、光刻胶显影装置、遮罩对准工具、光刻胶曝光资产、光刻胶去除装置几个部分组成。光致抗蚀剂供应组件负责以确保其清洁度和确保每种溷合物相同条件的方式供应和储存光致抗蚀剂。光敏显影装置有助于确保光敏显影的一致性和准确性.它负责精确定位和测量光致抗蚀剂溷合物，然后控制开发过程以获得一致的结果。掩模对准模型负责确保光刻胶从掩模精确转移到IC基板。该组件有助于将光掩模正确对准晶片,从而将正确的特征精确地传递到IC基板上。光敏曝光设备负责控制紫外线光源，以及其均匀性和功率。这确保了光刻胶在整个光掩模上均匀曝光，也确保了所需的图样被精确地转移到IC基板上。最后,光致抗蚀剂去除装置负责光致蚀刻工艺的管理.这包括蚀刻过程的定时、蚀刻过程中使用的化学成分，以及确保整个过程中蚀刻过程保持清洁。TEL Clean Track Mark 7是一个强大可靠的系统，用于集成电路制造中的光刻胶应用。它将几个系统合并为一个系统，以便有效和准确地进行光掩模对准和光刻胶曝光。该单元允许光刻胶均匀转移到IC基板上，能够准确控制显影和蚀刻过程，取得优异的效果。该机器非常适合各种IC生产需要，并被大多数IC制造设施所依赖。