二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9165479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一种光刻设备技术，旨在提高先进半导体器件的生产和性能。该系统利用一系列不同的光源，在其目标基质的区域内产生均匀一致的光照剂量。光致抗蚀剂系统在半导体工业中变得越来越重要，因为它们对于准确地暴露基板以达到所需的效果是必要的。TEL Clean Track Mark 7的设计特别旨在降低操作的成本和复杂性,特别是预定义的强度和均匀剂量的透过晶圆的光。TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7单元由多个集成元件组成，包括光学元件、控制器和抗蚀剂过程控制单元。光学元件利用优化的照明器以精确和均匀的方式将光传递到基板上。这保证了光刻过程的准确性和可重复性。控制器负责调节发出的光的强度并测量剂量，从而向光学元件提供反馈和控制，并抵抗过程控制单元。该抗蚀剂工艺控制单元用于控制化学-电镀和干渗透工艺，在优化蚀刻工艺参数方面起着至关重要的作用。为了解决与光刻胶工艺相关的关键问题，CleanTrackMark 7机器的设计具有许多显着的特点，如改进的热轮廓、精确的定时和基板上均匀的光强度。为便于实现这一点，该工具集成了高效光子探测器和均匀光源。另外，对剂量和暴露时间的精确控制由控制器进行。这些特性保证了高效、准确的操作，从而最大限度地提高了生产效率和光刻产量。再者，TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7资产配备了10英寸的扩散板，使得更精细的图样可以蚀刻在基板上，从而提供了改进的工艺窗口优化。此外,还可以使用特殊传感器实时测量抗蚀剂厚度,从而进一步实现精确的抗蚀剂处理控制。总体而言，TEL Clean Track Mark 7模型是半导体加工中接触印刷和光刻的最佳选择。它拥有先进的功能，如微调光学元件，精确的控制器和改进的抵抗处理单元。这些组分结合在一起，在基板上提供精确和均匀的光剂量，有效的热分布以及对剂量和曝光时间的精确控制。因此，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7设备实现了高效、经济高效的半导体生产。