二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9196447 待售
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ID: 9196447
晶圆大小: 6"
优质的: 1992
Coater / Developers system, 6"
System: Left to right for 8" wafer
Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cassette)
Configuration:
Main body 1
IF
Chemical cabinet 1 & 2
THC
PC Rack
Main controller: NEC FC-9801X
C/S Robot type: Vacuum arm / Ceramic pincette
Main robot type: 3-Pincette arm
Indexer: Laser diode mapping sensor
SCR: JET Nozzle / Rinse nozzle
Coat:
(4) Resist nozzles
Bellows pump 1 gallon resist bottle
Thinner local supply (Canister)
EBR Nozzle
Back rinse nozzle
Local drain (1ST SUS 10L Tank / Drain pump)
DEV:
Nozzle type:
E2 Nozzle
Rinse nozzle
Back rinse nozzle
local supply
Facility drain
WEE: UL-200T-L1 UV Light source
AD: Local supply
Currently warehoused
1992 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 7（CTM-7）是一种用于半导体工业的制造和建造过程中的光致抗蚀剂设备。它被用于多种应用，如光刻、干湿蚀刻和其他光子过程。该CTM-7是为大型复杂晶片设计的，具有高达0.25微米的高度精确的特征尺寸。它具有较高的吞吐率，与其他光刻胶系统相比效率高。该CTM-7采用间接和直接激光投影光学器件组合，将光刻胶层精确定位在晶片基板上。光致抗蚀剂通过静电力固定在EPC滚筒上，使其能够精确定位，中心精度为+/-1微米。根据作业的预定义参数，由高精度分发器分配光刻胶层。然后,激光光束在光致抗蚀剂层暴露下面的基板.然后根据作业参数将暴露的基板蚀刻到定义的深度。该CTM-7还有一个先进的真空处理系统，它允许晶片的最佳对准和处理。蚀刻完成后，晶片在电介质浴中清洗冲洗，然后自动装入自旋干燥机进行干燥。旋转式烘干机改善了循环时间，提高了晶片的清洁度。该CTM-7还配备了一个自动晶片检测单元，用户可以快速准确地检测晶片表面的任何缺陷。此外，它还配备了先进的工艺监测机，利用图像处理实时监控工艺步骤，并自动相应调整参数。这样可以确保光刻、蚀刻和清洁过程都以最佳质量水平进行。总之,TEL Clean Track Mark 7是一种可靠、高效的光致抗蚀剂工具,可提供高性能、高精度以及更好的循环时间。其先进的特点，如真空处理资产和过程监控模型，确保过程完成到质量和精度的最高标准。
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