二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9395128 待售
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ID: 9395128
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
(2) Coater system, 8"
Wafer flow: Right to left
Single block system
TEL Clean Track Mark 7 Controller
Stage/Indexer: Non SMIF/Open Uni-Cassette CS/Cassette Station
CSA/Cassette station arm
Normal photo resist coat 2-1
(2) Normal photo resist dispense nozzles per coat unit
(2) Normal photo resist dispense nozzles
(2) Bellows resist pumps per COT Unit
Single back rinse nozzle
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle quantity: (2) Spaces
Photo resist auto exchange
Cup type: PP for Upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder only
Normal Photo Resist Coat 2-2
(2) Normal photo resist dispense nozzles per coat unit
(2) Normal photo resist dispense nozzles
(2) Bellows resist pumps per COT Unit
Single back rinse nozzle
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle quantity: (2) Spaces
Auto dummy dispense system
Cup type: PP for upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder only
PRA/Process Block Robotics Arm
(2) LHP/Low temperature oven unit
External chemical supply system
Solvent supply system
Solvent chemical type
Chemical Center Supply System(CCSS)
With (2) 3L Teflon buffer tank
Tank type: 2 Buffer tank (3L/Tank, Teflon)
(2) Cover coat units
TEL OEM SMC Multi controller: Rear main body
Power transformer AC Cabinet : 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 7是一款光刻设备，能够实现集成电路的高通量生产。该系统设计完美的光刻涂层和抵抗修剪过程具有显着的精确度，使清洁，对称，和明确定义的电路模式。TEL Clean Track Mark 7的核心是其尖端的自动化涂层站。该站的工作原理是通过原子层沉积（ALD）将光致抗蚀剂精确地应用于晶圆表面。ALD用于确保涂层覆盖范围均匀,甚至占晶片上难以到达的任何位置。其低压喷气喷雾也使溶剂效率最大化。这对于较小的设备来说尤其重要,因为在较小的设备中,抗蚀剂材料的一致覆盖非常重要。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7还具有高精度的抵抗修剪工艺。它使用先进的近场光束光学单元来修剪不需要的抗蚀剂残留物。这台机器具有独特的光束角度设置，使它能够精确地勾勒出所需图桉的边缘。它还具有高分辨率,0.94微米激光,能够清洁,精确修剪.该工具还提供自动设置,用于监视修剪级别并确保它们得到维护。此外，CleanTrackMark 7的高精度基板对准器在晶片上提供了出色的抗蚀性材料均匀性。这一资产也在非常低的温度下运作，以最小的温度波动确保均匀覆盖。利用光学识别和直接位移/对准技术相结合，基板对准器可以进行精确的气隙测量和抵抗模式形成。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7除了具有光刻性能外,还具有其他几种工艺,有助于晶圆的生产过程。其中之一就是升空工艺，用于在电阻涂层工艺完成后清除未加工的区域。该模型是为高精度而设计的，它利用高效的排水垫片设备防止多余的溶剂溢出和损坏晶片。利用TEL Clean Track Mark 7的提升过程,可以实现准确、干净的边缘,从而确保最大生产效率和产量。总体而言，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7是一种高能力的光刻胶系统。其精心设计的涂层站、自动修剪工艺和精确的基板对齐器使其成为为各种应用生产干净、对称、定义明确的电路模式的理想单元。此外,其集成的提升过程允许快速、准确地清除未加工区域,以最大限度地提高产量并最大限度地提高生产效率。
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