二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #190708 待售
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已售出
ID: 190708
Coater system, 8"
Coat process: ARC, COT
Main fab:
Mainbody
Qty Item Description
(2) COT Coater units
(2) AD Adhesion units
(6) HP Hot plate units
(2) DHP Dehydration hot plate units
(1) WDS Cup wash unit
(2) COL Cooling units
C/S:
(3) SMIF Stage
Sub fab:
Submodule:
Item Description
SHINWA THC-CP T&H Controller
Chemical box
PR Cabinet
Currently warehoused
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一款为半导体器件制造的先进基板制备而设计的光刻设备。它专为优化性能、准确性和更高级别的可重复性而设计,为一系列设备制造应用提供了理想的解决方桉。该系统配备了实时运动控制、精密机器人操控和先进的基于摄像头的视觉解决方桉,允许精确的基板移动和精确的定位。它一次最多可配置三个晶片,并提供先进的自动化光学功能,允许精确对准掩模和基板。TEL Clean Track Mark 8具有用户友好的图形界面,能够保持厚膜均匀性,提供高精度的图样。其先进的基板制备装置采用化学蚀刻和激光剥离等清洁和剥离工艺相结合的方式,为一系列工艺快速制备基板表面。此外,先进的光学位移和位移速度控制提供了更高的精度,使得可靠和准确的模式。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8先进的晶圆和掩模处理特性,使高膜厚度控制的多掩模迭加和图样更加精确和可重复。这包括一个专用的遮罩提升机构,它被集成到视觉机器中,以确定精确的晶圆到遮罩的对准。Clean Track Mark 8还提供了强大的监控功能,并且该工具配备了高级配方管理资产和数字化流程控制,以确保所有设备都能提供高效的配方。这包括高级远程监视功能,包括实时访问流程数据的功能。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8是任何需要高精度、可靠性和可重复性的工艺开发应用程序的理想工具。其强大的设计和高级功能确保了它能够针对长期性能进行优化,从而使该模型成为高级流程应用程序的理想解决方桉。
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