二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293585704 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一种精密的光致抗蚀剂设备，设计用于精确对齐和阵列晶片。它提供了一个平台，旨在充分利用TEL Limited（TOKYO ELECTRON）在光刻、抗加工和晶圆处理方面经验证的技术。TEL Clean Track Mark 8是光刻应用的理想选择。它能够精确定位口罩，出色的对准精度和有效的模式转移到晶圆。该系统包括一个用于CCD注册的自袋小型范围；超紧凑的对齐阶段；全场曝光单位；晶圆负载站；以及集成的晶圆处理。这些组件创建了一个光刻解决方桉,该解决方桉旨在提高分辨率、可重复性和最小失真。微型瞄准镜具有自动、无损的口罩和晶片配准功能，减少了曝光时间，提高了对准精度。OptiScope的高级设计仅使用一次扫描即可提高对齐和配准的吞吐量和准确性,减少曝光时间,并在需要时提高对齐准确性。OptiScope还包括对齐和掩码注册信息的实时显示，使操作人员能够快速轻松地调整产品。超小型对齐阶段利用先进的机动化和机械设计技术，确保精细的精度和均匀的对齐。它提供了稳定性、精确度和速度，并配备了嵌入式、单件光机处理照明机器。所得到的性能保证了曝光后良好的模式精度。全场曝光工具提供了出色的模式传输精度和吞吐量。它采用先进的激光制图方法和电子快门，提供了5um的改进分辨率和高达每小时5个晶圆的容量。而晶圆装载站则可以方便装卸，减少曝光时间，提高吞吐量。集成晶圆处理资产旨在提供高性能生产环境所需的热交换和集成访问。晶片负载站能够同时连接多达四个晶片引入系统，从而实现有效的晶片加载和卸载。综上所述，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8光刻胶模型为高效生产提供了全面可靠的平台。它提供先进的对齐和曝光管理，确保晶圆的精确模式转移。这使得它成为生产高精度光敏应用的理想解决方桉。