二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9128615 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8是一款为纳米尺度的半导体加工而设计的光阻设备。该系统利用先进的干蚀刻和光刻共处理技术，提供了表面平滑度高、产量高、粒数少的部件。该单元能够以最小的清洁步骤进行图样和蚀刻,允许快速、均匀和可靠的图样,并最大程度地减少介电损坏,同时以高精度控制蚀刻参数。TEL Clean Track Mark 8可以容纳几种光刻胶配方，包括双层和单层图桉。它可以使用VUV/FUV光掩模对准处理正负光抗蚀剂。这台机器是为无与伦比的性能和均匀性而设计的，在各种基材和薄膜上提供高产通路。该工具基于Spin Etch技术，使用旋转电极以跟踪方式蚀刻晶片。旋转电极在很宽的区域内产生均匀的蚀刻速率，并且能够在很宽的功率范围内产生和控制均匀的低压等离子体。这种技术增加了均匀性，减少了晶圆热处理造成的电荷损伤。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8支持高生产率和高效处理,并提高关键结构的蚀刻速率。它利用串联蚀刻通过模块来减少蚀刻时间,实现更精确的尺寸和更快的处理时间。此外，资产提供精确的温度控制和精确的蚀刻时间控制。它还具有可变角度载荷级，以进一步减少载荷和卸载基板所涉及的时间。该系统提供了更好的覆盖精度和更高的光致抗蚀剂去除效率。这是通过应用和去除不同角度的光刻胶来实现的，允许生成不同大小和形状的隔离图桉。该模型具有原位洗涤能力，可以帮助去除蚀刻过程中粘附在表面的残留颗粒和颗粒。综上所述，Clean Track Mark 8是一款设计用于半导体加工的光敏设备。该系统能够以最小的清洁步骤对纳米级部件进行制图和蚀刻，并利用各种先进技术，包括自旋蚀刻、直列蚀刻模块、精确的温度控制和精确的时间控制，以提高产量和降低颗粒数量。该装置还提高了覆盖精度，提高了光刻胶去除效率。