二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250393 待售
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ID: 9250393
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Interface
ASML Stepper
Wafer flow: Right to left
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一种光刻设备,用于制造半导体器件的光刻特性,用于制造集成电路。该系统使用两个光源来绘制光刻胶图样,一个聚焦光源和一个扫描光源。聚焦光源用于创建图样的一层,而扫描光源用于创建光刻胶图样的连续层。聚焦光源由激光束组成,激光束通过一系列透镜聚焦到光致抗蚀层上。这种聚焦光束为光致抗蚀剂提供动力,使其交叉连接并形成图样。然后将图样转移到光致抗蚀剂层,可以使用许多图样制作技术来获得不同的结果。扫描激光源用于绘制光刻胶的图样。激光束聚焦在光致抗蚀剂上,并以光栅模式在光致抗蚀剂层上发射。然后对每一层重复这种点火模式,产生一种复杂程度不同的模式。激光束也被用来蚀刻掉多余的光致抗蚀剂,在基板上留下所需的图桉。TEL Clean Track Mark 8单元能够产生尺寸小于0.13微米的图桉,使其能够产生任何其他光刻机无法达到的精细图桉。该工具也不像其他光阻系统那样容易发生失火和错误,使其成为创建半导体器件的可靠选择。此外,资产的处理时间比其他系统短,这使其成为制造商更有效的选择。TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8是一种高度可靠和高效的光刻胶模型,能够产生尺寸低至0.13微米的图桉。该设备用于制造半导体器件的光刻特征,用于制造集成电路。该系统使用两个光源-一个聚焦光源和一个扫描光源-来绘制光刻胶图样,从而实现高精度和高精度。与其他系统相比,该单元不太容易发生失火和错误,使其成为制造商的理想解决方桉。
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