二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250394 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 Photoresist Equipment是一款高性能、经济实惠的半导体工艺工具。它用于在晶圆、印刷电路板和其他材料等基材上应用光刻胶的图样，光刻胶是一种在光刻过程中充当蚀刻面膜的液体。TEL Clean Track Mark 8通过将光刻胶图桉暴露在基板上，可以形成微结构，如IC、晶体管、电容器和光电器件。TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8旨在提供高精度的布局，基板对准和曝光。它具有可扩展的系统体系结构,包括相片曝光单元、抵抗涂层单元、底面等离子体清洁器、抵抗剥离器和UPS曝光板,它们都连接到PC。该装置配有集成的模式发电机和曝光源以及用于快速设备生产的自动板载/卸载能力。该机能够达到1.0 μ米以上的线宽精度和0.05 μ米以上的测量精度。它配备了先进的精密光光对准工具，可以自动检测、对准和设置轨道平台上的基板，公差为0.05 μ m。还使用了8英寸的高电流电子束源，允许创建非常精细和密集的曝光模式。此外,高端的Clean Track支持包还提供了一套模式校正和设计优化工具,可确保晶圆和基板的最佳性能。Clean Track Mark 8非常适合高溷合/低容量操作,在保持高性能水平的同时提供灵活性和成本节约。它还可以减少工艺时间，优化工艺重复性，并以更高的精度生产先进的光刻。资产完全可编程，与各种抗蚀剂类型兼容，成为大规模生产微电子器件的绝佳选择。