二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250397 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark 8光抗蚀剂设备旨在实现更小、更复杂的集成电路设计。它允许设计者在半导体基板上产生详细的微型图像或图桉。TEL Clean Track Mark 8具有FLEXI-DEVELATION （TM）技术,这是TEL开发的专有开发过程,用于确保最佳轮廓定义。利用FLEXI-DEVELATION （TM）技术，TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8通过光刻技术将图像暴露在半导体基板上的光刻层上。光刻是利用紫外线在光刻层上创建图片的莫尔图样的过程。光线随后通过具有图样的光掩模，以暴露光刻胶层。一旦暴露，根据预定义的desghn参数开发抗蚀层。产生的图像具有极高的分辨率，并允许物体被精确地蚀刻到基板上。它还能提供卓越的工艺控制和均匀的保形湿法开发.这样就可以跨各种工艺要求进行高度可靠的生产。Clean Track Mark 8还具有广泛的过程控制功能。它具有先进的自动运行时管理器来控制温度、抵抗曝光率和开发后的清洁。该系统还有一个内置的计量包，可以连续监控抗蚀剂特性，以确保准确性。此外,该单元还具有快速、准确地修改配方以适应流程更改的性能。TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8可用于半导体过程中的多种操作，如内存芯片、逻辑芯片和CMOS图像传感器。它非常适合于高功耗、超薄的应用,可用于各种工艺技术节点。它具有支持多种模式应用的能力，并具有变速控制机制，根据个人需求定制流程。总体而言,TEL Clean Track Mark 8光刻机为许多行业的半导体加工提供了先进的设计解决方桉。它提供可靠、准确的图像、过程控制能力和配方灵活性,以确保设备的最佳性能。