二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9269249 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8是一种为了适应现代半导体製造商的需求而设计的光刻胶设备之一。该系统设计用于从晶片中沉积和剥离光致抗蚀剂，以最精确、最精确的方式创建复杂的图样。TEL Clean Track Mark 8使用电子束来暴露和不溶解光致抗蚀剂，以及化学灰化工艺来完成蚀刻过程。这个单元可以精确蚀刻线宽到0.35µm，以及作为倒角和圆角的线缘。该机具有自动化、可编程的抗蚀剂分配和清除功能,可确保光刻胶的精确沉积和剥离.为了保证均匀薄层的抗蚀剂，Clean Track Marks 8配备了自动倾斜间隔工具。此资产允许在直径8英寸的晶片上分配和剥离可重复性和均匀性。作为TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8的一个独特提供功能，气体淋浴的存在有助于保持残留物、颗粒和其他污染物远离晶圆表面。该模型还具有粒子密度控制设备，该设备旨在保持基板表面上微粒的最低水平。在系统内部，抗蚀剂分配机构由不锈钢构成。这有助于避免抗蚀剂的积累，并防止磁性粒子干扰暴露过程。总体而言,Clean Track Mark 8的设计最注重细节和可靠性。优越的真空臂和晶片夹紧设计的结合，加上自动倾斜间隔单元，创造了一个光刻机，为现代半导体制造需求提供了最先进、最可靠、精度最高的结果。