二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9375656 待售
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ID: 9375656
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
System, 8"
SMC INR-244-110D Thermo controller
(3) SMC INR-244-112A Chillers
(5) SMC INR-244-113B Thermo controllers
SHINWA T&H-CPC-1-NL THC Unit
Wafer transfer robot
Process robot
(5) Ovens
(5) Coolers
(2) Coater units
DEV Unit
Adhesion unit
Board set
PC
Chemical tank
Mass flow control
AC Rack
(2) UPS
SMIF Module:
INTERNOVA INC ICLS-RTX
Main controller
Driver part
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Mark 8是为高级光刻应用而设计的光刻设备。该系统采用了一种称为阳离子抗蚀剂的新型抗蚀剂技术，提供了高度的精度和精确度，具有无与伦比的监测、修剪和控制光刻工艺曝光的能力。该单元由四个主要组件组成：控制中心、晶圆曝光/处理单元、对准器和电源。控制中心允许用户设置曝光参数，监控曝光水平，并控制对齐器的运动。用户还可以与机器通信并修改曝光过程参数。晶圆曝光/处理单元包括一个可以在两个方向上移动的石英表，以及一个允许用户在不同温度下运行不同基板和抵抗类型的腔室。该对齐器用于精确控制晶片的对准，并将每个晶片暴露在正确的激光束下，以达到所需的工艺结果。该工具还配备了先进的电源，以支持高精度、可重复曝光的应用。TEL Clean Track Mark 8包含许多高级功能。它配备了先进的过程控制资产,可提供一致且可重复的性能,并提高了过程的稳定性和准确性。该模型还能够对工艺数据进行监测和分析，以改进光刻工艺，取得更好的效果。晶圆曝光/处理单元设计用于提高均匀性，可以容纳多种基材和抗蚀剂。设备还配备了先进的图形用户界面，提供了方便的系统监控方式。TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8是先进半导体制造和微电子器件制造等应用的理想选择。它通过利用阳离子抗蚀剂的特性提供超精确的光学控制，并提供精确的控制和重复性的曝光。Clean Track Mark 8通过为用户提供可靠、高效的光刻过程监控和控制方法,确保了更高质量的结果,从而缩短了开发时间,加快了产品上市速度。
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