二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672262 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark II Photoresist Equipment是精密基板清洁室工序的一流工具。该系统可实现快速、高质量的光刻胶图样制作过程,且人员互动最少。它有一个半自动跟踪单元，用于多步膜加工，允许高效的基板加工。机器采用了几个处理室，每个室都有自己独立的操作。工艺序列包括脱胶、基材清洗、粘附、软烘烤、曝光、曝光后烘烤和曝光后加工。脱熔室设计用于去除基板上的表面污染物，并为粘附做好准备。这样做是通过对表面进行高能真空，然后用氙等离子体溅射基板。底物清洁室采用专利亲水溶剂清洁法，从底物中去除有机残留物和疏水膜。粘合室是一种化学气相沉积过程，其中硅有机硅烷的单层键合到晶圆表面。这有助于确保后续层与基板正确结合。软烘烤室通过使晶片在高温下蒸发残留溶剂并增强光刻胶的表面附着力，进一步为晶片的进一步加工做准备。在曝光室中，所需的光掩模与晶片对齐，紫外线透过掩模发光，将图桉接触-暴露在晶片上。然后在曝光后的烘烤室中进行曝光后烘烤，使光致抗蚀剂变硬和发展。在曝光后处理室内，用一种特殊的化学加工剂处理暴露的晶片，揭示基板上的光刻图样。TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool是为精确和可重复的光刻结果而设计的。是高质量洁净室作业的可靠精准工具。对于任何研究或生产环境而言,它都是一种高效高效的资产。