二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark II #293672270 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark II Photoresist Equipment是一种综合性光刻系统，设计用于半导体晶圆加工作业。该单元具有许多高性能组件,可用于精确晶圆阵列应用。机器的核心是它多用途和能干的照明工具，它允许高度精确地曝光晶圆上的光刻胶层。Xenon灯被用作光源，复杂的投影资产允许晶圆上的精细特征的完全分辨率，以及晶圆的可重复照明。投影筒和继电器镜头等其他光学元件有助于提供实用半导体加工所需的高精度和重复性。Mark II Photoresist模型还具有一个多轴级组件，该组件针对设备各部件之间晶片的精确和可重复移动进行了优化。该级由驱动三轴控制的高精度直流伺服电动机驱动。舞台高度刚性的构造和低调的设计允许低重心，从而提供优越的运动和运动控制，同时保持系统的占地面积小。为了确保所有晶片都能以统一的方式创建精确的图样，Mark II光阻装置还包括一台精密的校准机。此校准工具可自动对准资产的光学器件,并确保光刻胶的曝光在晶片上均匀且可重复。Mark II Photoresist模型设计为易于操作和维护，使其成为大容量晶圆处理操作的理想解决方桉。设备包括若干诊断工具和内置保护措施，以尽量减少停机时间并确保系统正常运行。此外,该设备还提供了软件更新,使用户可以随时更新其机器以进行最新改进。总体而言，TEL Clean Track Mark II Photoresist Tool是一种针对半导体晶圆处理应用的全面且易于使用的解决方桉。其精密的照明资产、多轴级装配和先进的校准模型使精度和可重复性达到最高水平,而其用户友好的设计则确保设备易于操作和维护。