二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #293628523 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark Vz Photoresist Equipment是半导体工业中为精密微加工和大批量生产而设计的光刻工艺解决方桉。该系统将最先进的光致抗蚀剂与G3工艺控制相结合,实现了更高的工艺一致性和更高的可重复性,并降低了维护成本和浪费。单元的核心是应用模块，其中包含两个预先对齐的分配室。此配置可确保最小化分配的可变性,并支持异常统一和高分辨率的结果。这些腔室允许在溶剂之间快速切换，允许广泛的工艺灵活性。温度、流量和分配电压补偿的自动校准和同步有助于从批次到批次保持可重复的性能。该机还包括一个高级控制单元，即Mark Vz控制器。这款智能工具为用户提供了一系列功能，如自动化流程控制、统计流程控制、照片对齐控制以及自动补偿较低的配电率。板载软件通过其高级功能识别功能进一步提高了性能,最大限度地减少了分配变化的影响,并确保了最小的停机时间。为了提高可重复性，该资产采用闭环冷却模型设计，有四个热独立温度传感器。这样可确保温度精度在0.3°C以内,从而提供业界最高的可重复性级别。该设备还提供了一个自动掩码更换解决方桉，允许改进过程管理和高效的操作员设置。为了提高性能和准确性,系统还提供了额外的物理和电气过程功能,从而可以更好地控制安全性、精度和吞吐量。总体而言，TEL Clean Track Mark Vz光阻装置是一种针对半导体行业需求量身定制的高性能、低维护的光阻解决方桉。通过将统一的分配、先进的过程控制和提高的可重复性和准确性相结合,此解决方桉提供了无与伦比的性能、质量和成本效益级别。