二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark Vz #9314130 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Mark Vz是一款为快速、精确的晶片阵列设计的光刻设备。它具有高速扫描功能和100纳米分辨率,非常适合单层或多层光掩模制造。该系统由一个波长为193 nm的大功率水冷ArF激光器组成。它与中心对准单元相邻，允许光掩模与晶圆精确对准。ArF激光输出通过光学柱传递，光掩模图桉从相应位置投射到晶圆上。激光扫描仪非常精确，可以在不牺牲精度的情况下创建非常小的特征。它能够达到200毫米的线宽,精度为± 10-nm。它的运行速度高达1000行/秒,使其能够比同类中的任何其它机器更快地生成原型功能。此外,Mark Vz还具有各种高级安全功能。水边盖防止与激光光学器件接触，主轴保护工具限制激光接触晶圆。如果晶圆未能正确定位,安全传感器将关闭激光束,从而保护光掩模不受任何损坏。为了便于维护,资产配备了易于使用的软件。它自动执行许多常见的维护任务,并提供详细的诊断信息。此外,还可以使用最新的软件包更新型号,以确保设备的最大使用寿命。总而言之，TEL Clean Track Mark Vz是一种高度精密的光致抗蚀剂设备，专为快速、精确的晶片阵列设计。其可靠的性能、精确的精度和安全特性使其成为制造精确光掩模图桉的理想选择。