二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track #9399665 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track
ID: 9399665
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
Wafer edge exclusion track system, 6" 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track是半导体制造商在生产集成电路时使用的先进光刻设备。光致抗蚀剂是一种光敏化学膜,用于在各种基材上形成电路。它经过各种步骤的光刻、蚀刻和沉积过程。TEL Clean Track系统有助于将风险降至最低并提高这些过程的准确性。TOKYO ELECTRON CLEAN Track单元的设计目的是提供一个稳定一致的环境,围绕晶圆暴露于过程中敏感的光刻胶步骤。它具有多个阶段,侧重于防止颗粒污染,这可能导致最终产品的缺陷。这些阶段包括:颗粒预制剂、静态控制、清洁气体、颗粒过滤、环境监测和后清洁。颗粒预制剂用于识别和清除清洁轨道室内的污染物。静态控制可防止在腔内积聚的潜在静态电荷,这也会造成颗粒污染。清洁气体是一种高度过滤的溷合物,防止在室内引入新的颗粒。颗粒过滤是一种主动过滤机器,除了先前消除的颗粒外,还捕获环境环境中的颗粒。环境监测系统在进入TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track chamber之前检测任何粒子。最后,对粉末进行进一步的粉末洗涤.TEL Clean Track工具可帮助半导体制造商在最小缺陷的高效过程中生产高质量的集成电路。这是通过消除整个光刻过程中的颗粒污染来实现的,从而允许在每个步骤中保持严格的过程控制。此外,资产能够确保每个步骤的产品都没有缺陷。总体而言,TOKYO ELECTRON Clean Track模型是高产率、经济高效的半导体制造的基础。
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