二手 TEL / TOKYO ELECTRON CPHP WCPL/TRS #9102211 待售

ID: 9102211
Plate Process Station for Clean Track Lithius (3) CPHP General Chamber (2) Chilling Hot Plate Process Station CPL (1) Water Controlled Chill Plate Process Station / Transition Stage WCPL/TRS.
TEL CPHP WCPL/TRS是一种由TOKYO ELECTRON设计的光阻设备。该系统能够为用户提供在玻璃、金属、陶瓷和塑料等多种材料上创建高质量图桉的能力。该单元使用CPHP(反向充电控制部分硬化)和TRS(全反射射击)技术来设置印刷电路板(PCB)和其他电子元件中使用的高分辨率模式。TEL/TOKYO ELECTRON CPHP WCPL/TRS光致抗蚀剂机实现的CPHP技术允许暴露于高达20KW/cm的极高强度光中²这通常比典型的光致抗蚀剂曝光系统亮5至10倍。此外,无需掩码即可完成完整的设置,从而使CPHP在原型制作方面具有灵活性和经济效益。TRS技术提供了一层保护和稳定性,同时还为用户提供了极其精确的模式。TRS功能允许有效的光反射,这对于确保精度和图样精度非常有用。它可以有效地收缩和扩展材料上的图样,同时确保质量和稳定性。TEL CPHP WCPL/TRS光刻胶工具的应用因其高精度的模式、稳定性和高品质的结果而超越了标准原型设计。这些特性使其成为生产高精度塑料镜头、3D光栅和各种印刷电路板的理想选择。CPHP WCPL/TRS光刻胶资产使用方便,加上高精度的图形用户界面,甚至新手用户也能快速学习软件。它为用户提供各种手动和自动模式的控制功能。该模型还提供了整个阵列制作过程的实时反馈,从而允许用户调整设置并验证结果以获得最佳结果。综上所述,TOKYO ELECTRON CPHP WCPL/TRS光电抗蚀剂设备对于那些需要高质量模式的人来说,是一种具有成本效益的方法的强大资产。它利用CPHP和TRS技术生成高分辨率图像,并为用户提供各种控制功能和实时反馈。由于系统功能强大且易于使用,因此非常适合创建高精度塑料透镜、3D光栅和打印电路板(PCB)。
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