二手 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380665 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CS-600光致抗蚀剂设备是一种综合性的工艺系统,主要用于在300 mm至200 mm的晶片上对先进光致抗蚀剂材料进行光刻制图。它支持多层光刻胶的处理，能够以30nm可重复性的高精度处理。它包含同时的高度/焦点/剂量计量法，为高精度图样提供精确的聚焦和剂量控制，还具有直接的光学图样成像单元，用于精确的图样放置。TEL CS-600机使用高分辨率图像的光学热投影（OTP）来实现精确的光刻图样制作过程。OTP利用先进的投影光学和成像技术,利用瞳孔成像（PI）和特征亮度补偿（FBC）将高强度、均匀的掩模图像带入抵抗膜。这样就可以在多层过程中实现多种阵列化技术,例如偏心曝光、底部防反射层（BARL）处理和衰减阵列化。PI技术允许对图样元素进行更好的分辨率,FBC可以补偿由于图样元素的大小而导致的图样元素亮度差异。TOKYO ELECTRON CS-600提供高频（最高300kHz）光声扫描，提供高精度、高速度和高分辨率模式。它们还能够对晶片平面进行亚微米对准,以进行模式传输和各种对准,并支持高级成像和抵抗掩蔽功能。CS-600的温度控制特性提供了一个均匀的抗蚀膜厚度一致的图桉结果。它能够处理各种过程，如顶面烘烤、涂层、烘烤和曝光。TEL/TOKYO ELECTRON CS-600的极低温度设置也有助于最大限度地减少过程中抵抗损伤的可能性。除了通用抗蚀剂加工工艺外，TEL CS-600还能够加工多种先进的光刻材料。它设计用于处理单层和多层光刻胶应用。TOKYO ELECTRON CS-600的快速光学成像工具可以让使用者以0.2um的精确度对光抗蚀剂特徵成像。光敏资产还配备了先进的分析控制和检测流程。这些包括设计规则检查、地形测量、曝光剂量控制、分辨率测量、缺陷检查、污染检查、晶圆/像素均匀性测量和粒子计量。CS-600为光刻制图提供了卓越的性能，是处理复杂光刻工艺的高度可靠的模型。这是极其昂贵的，使得许多实验室很难获得，但总体TEL/TOKYO ELECTRON CS-600提供了当今最高水平的光敏性能。