二手 TEL / TOKYO ELECTRON CS-600 #9380689 待售

TEL CS-600Photoresist设备是满足半导体制造需求的通用可靠解决方桉。光致抗蚀剂是一种光敏材料，在制造过程中沉积在半导体晶片表面上，用途多种多样。TOKYO ELECTRON CS-600Photoresist System允许工程师以极致的控制和精确度将光刻胶精确地沉积在表面上。它采用了由计算机控制的液体射流实现的喷雾过程，从而实现了精确的点点沉积。这非常适合具有复杂掩蔽和阵列要求的应用程序。TEL/TOKYO ELECTRON CS-600Photoresist Unit配备了能够在工艺之间精确传输晶片的晶片处理机等自动化功能、确保工艺完整性和质量的腔室清洗程序以及用于高产加工的精确电源。此工具还具有用于记录整个过程中每个关键参数的高级数据记录功能。TEL CS-600Photoresist Asset提供各种设置,以满足任何需求或流程要求。它能够处理高达300 °C的温度、高达1 Torr的真空设置以及从2秒到2小时的各种处理时间。该模型还提供了对腔室压力、湿度、流量、气体成分等的控制.TOKYO ELECTRON CS-600Photoresist Equipment是满足任何半导体制造需求的可靠且值得信赖的解决方桉。其用户友好的设计,加上先进的自动化和数据记录功能,使其成为任何项目的绝佳选择。凭借其精确度和灵活性,工程师可以放心,他们的光致抗蚀剂处理需求将以最高的质量和可靠性得到满足。