二手 TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269610 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CS450光致抗蚀剂工艺是一种先进而坚固的集成电路制造系统。其核心是三级沉积-旋转涂层、浸入和曝光后烘烤（PEB）-用于在半导体基板上沉积光聚合物薄膜。然后用这种薄膜将电路模式传递到所述基板上。TEL CS450是一种经济的自旋涂层，在提供均匀、精确可控的自旋涂层厚度方面表现出色，能够可靠地保存图样布局。它还旨在确保为每个材料类型和作业设置最佳参数。这是通过使用预定义的配方文件来完成的,这些文件可以针对任何特定变量（如喷嘴大小、舞台温度和旋转速度）进行定制。TOKYO ELECTRON CS 450背后的核心技术是其浸入过程。光刻胶膜使用受控真空精确地沉积在基板上，这样可以实现全表面覆盖和质量一致。TEL CS 450利用了一种特殊的化学溶剂，旨在快速蒸发，在底物表面留下均匀的光致抗蚀剂层。如果需要,可以省略浸入式台阶,但其使用将确保光刻胶图桉在不留下任何缺陷或损坏的情况下被转移到基板上。TOKYO ELECTRON CS450光致抗蚀剂工艺的最后阶段是曝光后烘烤（PEB）。这是光致抗蚀剂加工的一个关键步骤，因为它控制着胶片曝光后的物理、化学和形态特性。对该过程中设置的PEB温度和相对湿度系数进行了优化，以确保光刻胶薄膜能够正确、充分地曝光，并在延长的工作时间内保持稳定可靠。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON CS 450光致抗蚀剂工艺是一种非常可靠和经济的系统，被证明能够产生质量一致、产量高的电路。其集成的三级沉积工艺确保了自旋涂层厚度的完全可控，为模式布局提供了可靠的保存。这种精度和鲁棒性的结合使得CS 450成为任何半导体制造应用的理想选择。