二手 TEL / TOKYO ELECTRON CS800S #9383288 待售
网址复制成功!
单击可缩放
TEL/TOKYO ELECTRON CS800S Photoresist Equipment是一种用于半导体工业的尖端光刻解决方桉,可实现高精度纳米加工。该系统具有一套先进的集成光学器件,其分辨率比任何其他可用的光刻设备都要高。解析后的特性可以小至100 nm,典型的解析度为5-10微米的机器。该工具通过一种"步进重复"的方法来操作,该方法涉及将图像成像到放置在旋转滚筒上的胶片上,然后精确定位以在单个基板上创建多个图像。资产的光源是一种紫外线激光器,由各种各样的集成透镜促进,以高效的方式创建高分辨率图样。除了改进的分辨率外,TEL CS800S还提供高吞吐量。这是通过独特的狭缝扫描方法和先进的前体处理技术(PAAA)来实现的,以实现更快的处理时间。为了进一步改进该过程,光学计量模型能够实现精确对齐,该模型具有广泛的角度、深度和X-Y坐标,从而最大程度地减少了阵列中的变化。此外,该设备还包括一个具有大孔径的高全晶片曝光站,以减少加工时间。该站还用于后期处理,以确保最终产品达到或超过所需的质量指标。总体而言,TOKYO ELECTRON CS-800S是一种顶级的光刻解决方桉,可用于创建具有卓越分辨率、高通量和改进生产时间的纳米制造。该系统还具有高级集成镜头、PAAA技术和精确对准计量学的高度可定制性,有助于进一步最大化设备的潜力。这些特性共同创造了一个真正革命性的光刻解决方桉。
还没有评论