二手 TEL / TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF #9303277 待售

TEL/TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF是由半导体和薄膜制造设备的领先供应商TEL, Ltd.开发制造的一种光刻胶设备。该系统旨在优化和简化芯片制造的光刻工艺。TEL LITHIUS ARF单元由ARF机和沉积工具两个主要组件组成。ARF资产包括一个自动抵抗装载机（ARL）、一个自动抵抗开发者（ARD）和一个晶圆检查机器人（WIR）。ARL将晶片加载到ARD上，然后ARD根据用户定义的参数沉积所需的光刻胶。然后，WIR对每个晶片进行检查，以验证抗蚀剂是否一直沉积，晶片表面质量是否令人满意。沉积模型包括一个用于精确控制薄膜厚度的微米主轴、一个用于控制反应环境的反应室、一个用于精确调整光强度的曝光前和曝光后模块以及一个用于半连续处理多达25个晶片的排气设备。沉积系统采用先进的沉积控制算法，以保证每个晶片上均匀的抗蚀性厚度。ARF装置和沉积机的结合，使光刻胶具有一致、高质量的曝光性，反应温度控制严密，曝光度控制精确。反应室还设计用于最大限度地减少污染物和最大限度地提高产率。该工具使用"准时"加载资产，通过确保晶圆不会长时间暴露在大气中来减少不必要的停机时间。此外,TOKYO ELECTRON LITHIUS ARF可以很容易地与其他系统集成,例如步进器、扫描仪和退火器,使其非常适合在大批量生产环境中使用。LITHIUS ARF是现有最先进的光刻胶系统之一,在高效、经济高效的软件包中提供卓越的精度、可靠性和性能。