二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293793614 待售
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ID: 293793614
晶圆大小: 8"
(5) Coater / (5) Developer system, 8"
Coater cabinet
Developer cabinet
Dual block
ASML AT 850D Interface type
SHINWA THC Cup
(4) Loadports with FOUP Capable
Carrier type: RFID
Barc:
(2) Cups
(3) Nozzles per cup
Pump type: RGEN2-4CC Pump
Filter: 0.02 µm
Solvent filter: 0.05 µm
Resist:
(3) Cups
(7) Nozzles per cup
Pump type: RGEN2-4CC Pump
AMC Valve
Filter: 0.02 µm
Solvent filter: 0.05 µm
(5) Developer cups
NLD Per cup for developer nozzle
(2) Nozzles per cup for DI Water rinse
Nozzle per cup for FIRM Supply
ENTEGRIS AHUZ0LEM1 Developer
ENTEGRIS ABUZOLEM1 DI Wafer
(3) Adhesion
(11) CLHP
(6) CPHP
(8) HCP
(5) CWH
WCPL
WEE
Power supply: 208 VAC, 3 Phase.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是为精密光刻工艺而设计的全自动光刻设备。该系统提供了一个广泛的功能，以有效地抵抗处理和优越的图样处理结果。针对高通量生产进行了优化，利用了光刻技术的最新进展。该装置允许一次在大小基板上处理多达八种类型的抗蚀剂，采用自动厚度控制机制，确保工艺的均匀性和高精度。机器由一个光源、一个光学级和一个平台组成，用于定位与掩模级对齐的基板。光学级包括精确对准工具和用于移动基板的步进器。光源负责提供所需波长和强度水平的光，能够进行标准和先进的光刻工艺。资产具有一系列高级功能,包括一个特殊的多层、防阻处理模块和一个自动处理大面积基板的定制设计输送机。自动晶圆定位模型集成了独特的光学扫描仪和智能清洗设备。它还配备了电动面罩舞台、集成真空系统和自动调谐功能。该装置提供出色的防污保护，并装有特殊的保护性气体，以确保长期维护。它采用简单的用户界面和触摸屏显示屏设计，能够快速准确地调整参数。该机还具有低振动设计，部分消除了减振的需要。照片对准、对焦和镜头对焦功能已集成到工具中,以实现卓越的图样化结果。资产快速高效,为运营商提供无与伦比的性能和灵活性。它与广泛的光致抗蚀剂兼容，旨在满足各种行业的需求。是优化光刻工艺、提高吞吐量、保持卓越精度的理想途径。
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