二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9102159 待售
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ID: 9102159
Coater / developer plate station
Clean track
Process Block
Process Block Robotics Arm
Coat Process Station
Develop Process Station
Plate Process Station.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一种用于制造半导体器件的光阻设备,如计算机芯片,以及其他电子元件。该系统将光敏材料或光致抗蚀剂应用于硅片。当暴露在光线下,硅片的某些部分会被蚀刻掉,这取决于光刻胶的曝光。然后可以将组件的物理形状蚀刻到剩余区域中,从而使生成的产品具有所需的微观模式。TEL Lithius光致抗蚀剂单元是一种基于真空的功能,其开发目的是在全硅晶片或其他基材上刻画光致抗蚀剂材料均匀覆盖的临界层。机器同时控制多个进程的移动,以提供最佳的统一性和生产率。它遵循光刻工艺一步一步地确保最终工艺性能所需的特殊特性的综合编程。该工具具有处理200 mm硅晶片的能力,还具有直径更大的300 mm晶片的功能,以及与其他基板的功能,如玻璃。从正面到负面的各种抗药性都可用于资产。不同的抗蚀剂必须用于每个技术人员的特定用途和一些基材,如石英、石英石英、玻璃或硅,这取决于应用。这使得从半导体应用到显示和太阳能电池应用的众多用途成为可能。TOKYO ELECTRON Lithius photoresist model works by function in a series of steps, which include spin rinse, pre-coat, post-coat, pre-bake, wentle bake, and soft bake.对这些步骤中的每一个步骤进行监控,以确保满足所需的结果,并且附着力和工艺纬度都在规范范围内。该设备还能够使用具有正负型抗蚀剂的多层抗蚀剂策略,从而设计出极高质量的图桉。整个系统是由软件驱动的,允许易于使用和编程。它支持多晶片功能,实现了可替代手动晶片处理的全自动解决方桉。此外,该机组还配备了多种既安全又可靠的工艺特性,如温度、曝光时间、自旋速度和压力,所有这些都必须精确定时才能获得所需的结果。总体而言,锂光刻机为制造高度复杂和精确的半导体元件提供了可靠和高效的方法。它提供了很大程度的控制和准确性,其自动化过程确保了产品的一致质量。
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