二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9105628 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Equipment是专门为精密光刻应用而设计的先进光刻加工技术。该系统使用紫外线（UV）光源在硅片上创建图样,然后将其用作设备制造的基础。该单元的主要部件包括专门的光刻材料、面具或艺术品，以及集成精密光学和照明机器。该工具的所有部件都经过设计和优化，可用于高精度光刻加工。光敏材料是一种光敏聚合物，能够在硅晶片上产生复杂的图桉。TEL Lithius Photoresist Asset中使用的光阻是一种高分辨率、交联的光聚合物，对紫外线高度敏感。这种光致抗蚀剂被旋转涂覆在硅片上，并在曝光前进行高精度的对准操作。集成精密光学模型用于将图稿或遮罩图桉投影到光刻胶上。此图稿精确对齐,以确保UV灯创建的图样在设备制造商指定的公差范围内。TOKYO ELECTRON Lithius Photoresist Equipment还利用发光二极管（LED）阵列进行照明。LED照明阵列比微电子制造中使用的其他光源更可靠、更高效，一般光谱范围更广。LED产生明亮、均匀的光束，该光束精确地指向光刻涂层的硅片。一旦曝光，光刻涂层的晶片就会经过一系列的化学过程，如显影和烘烤。在开发过程中，光致抗蚀剂有选择地从晶片的非阵列区域中移除，留下阵列区域。烘烤过程进一步将剩余的光刻胶交联，确保图桉化区域的极致硬度和电绝缘。Lithius Photoresist System为生产高品质集成电路提供了精密光刻解决方桉。它使用高分辨率光聚合物、精密光学器件和LED照明阵列可以实现一致的特征尺度处理和设备制造。此外,它能够以最小的公差产生错综复杂的阵列,这是制造当今高度复杂的电子设备的理想工具。