二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111797 待售
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ID: 9111797
CPL Chilling Hot Plate Process Stations
BASE ASSY FRONT, P/N: 5087-402532-13
BASE ASSY MID, P/N: 5087-401685-19
BASE ASSY BACK, P/N: 5087-401686-17
BASE(CPL)ASSY SUPPORT, P/N: 5085-408084-11
GUIDE(10) ASSY, P/N: 5085-404679-12
COVER(CPL) ASSY BACK, P/N: 5085-408086-13
BRACKET(DSW)ASSY, P/N: 5087-402531-13.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一款最先进的光刻设备。光敏材料是一种用于制造电子电路板和半导体器件的感光材料。光刻胶系统由4个主要组成部分组成;脉冲准分子激光器、检测器模块、偏振器光学和晶片级。脉冲准分子激光器是一种特殊的单元,利用紫外线将所需的图桉暴露在光刻涂层晶片上。激光会诱导光刻胶发生化学变化,从而决定光刻胶对后续加工的反应。探测器模块由一个处理器和两个照片探测器组成。处理器处理并解释从主机发送的矢量数据,以确定矢量方向和暴露量。两个光电传感器测量激光穿过晶圆表面的线性运动,确保晶圆的整个表面均匀暴露。偏振器光学器件是一种用于控制激光光束方向的器件。光学元件包含几个透镜和滤镜,这些透镜和滤镜可以调整以将光束聚焦在所需的图样上。这样可以确保图样以正确的强度准确曝光。晶片级是一种运动控制机器,用于精确定位激光下方的晶片。它配备了伺服电机和编码器来控制晶圆的XYZ定位。该级具有针对不同方向旋转晶片的能力,其方向可以快速改变,使曝光时间最小化。TEL光刻工具是现有最先进的系统之一,用于制造先进的集成电路。该资产为创建具有卓越边缘分辨率的复杂阵列提供了卓越的速度和准确性。它具有极好的可靠性,非常适合大批量生产。
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