二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9112797 待售
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ID: 9112797
WCPL/TRS Water Controlled Chill Plate Process Stations
Part Numbers:
5087-401690-18 BASE ASSY, MID
5087-401686-17 BASE ASSY, BACK
5087-401687-13 BASE (3P-CPL) ASSY
5085-408087-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT
5085-403233-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT
5085-404679-12 GUIDE (10) ASSY
5085-413028-11 GUIDE (11) ASSY
5085-409705-12 COVER (WCPL) SET
5085-409703-12 COVER (TRS) ASSY
5087-401691-11 PLATE (TRS) ASSY
5087-403214-11 PLATE (TRS) ASSY
5087-403592-14 CWH (HP) ASSY
5087-403596-11 PIN BASE (CWH) ASSY
5087-403633-13 CWH (HP200C) ASSY
5087-403634-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY
5085-413143-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY
5087-403641-12 CWH (HPB200C) ASSY
5087-403642-11 PIN BASE (CWHB200C) ASSY.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是为了能够生产具成本效益、高解析度的蒙版而开发的光刻胶设备。该系统特别采用深紫外线（DUV）照明和自动图像处理技术的组合，生产出精确、高分辨率的口罩。该单元的基础是光刻胶的使用，光刻胶是对光反应的材料层。光致抗蚀剂使用户能够精确地控制材料在光线下的暴露，从而提供一种在表面上放置图桉的方法。为了保证精度，光刻胶被应用在多层，每一层具有不同的吸收特性和曝光水平。光是由光刻机的DUV照明单元产生的，该单元使用激光器将图桉投射到光刻层上。光的强度被精确、精确的控制，光抗蚀剂根据其吸收特性和曝光水平成比例地吸收光。光施加后，光刻胶被开发出来，从这一点上，处理步骤将准备好的光刻胶层转换成具有预定设计的掩模。使用TEL Lithius光敏工具的关键优点是精度和可重复性。该资产可用于生产分辨率很高的口罩，其特性小至10纳米。此外，自动图像处理技术有助于确保所产生的模式准确和可重复。TOKYO ELECTRON Lithius photoresist model also produces masks that is the met-bel-helfic它的激光器可以一次创建多个掩模，降低制造成本。此外，该设备利用最少的材料和能源，实现了高效的资源利用。总体而言，Lithius是一种可靠且经济高效的光刻胶系统，能够生产精确的口罩。它结合了DUV照明和自动化图像处理技术，确保了一致的结果和高效的资源利用。因此,此单元非常适合生产用于各种应用程序的高分辨率口罩。
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