二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9185423 待售
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ID: 9185423
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
(2) Coater / (3) Developer systems, 12"
Coaters:
(8) Resist nozzles
With (2) temperature controllers
Touch filters for resist / Solvent
Mass flow controller
Developers:
NLD Nozzles
With (3) temperature controllers
(3) PRD Nozzles
Touch developer filter
Thermo controller unit (TCU) inside track
Single block track
(4) Blocks interfaced / Wafer transfer robot arms:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Cassette FOUP designs
SECSI/II / HSMS / GEM Interface
Interface: NIKON S308
(2) Adhesion process stations (ADH)
(5) Chill plate process stations (CPL)
Transfer chill plate (WCPL)
(2) Low temperature hot plates (LHP)
N2 Purge capability
(6) Precision chilling hot plate process stations (CPHG)
Wafer edge exposure system (WEE)
Buffer cassette, 3"-6"
Hard disk not included
Sub components:
Temperature / Humidity controller
(2) Chemical cabinets
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是一种用于半导体器件制造成像过程的光阻设备。它是一种先进的工具，用于创建具有极好分辨率的电路模式。该系统使用紫外线（UV）光和溶剂的组合来去除光掩模投影区域中的光敏材料。与其他光刻技术相比，光掩模用于在基板上铺设设计图桉，分辨率极佳。光致抗蚀剂是一种施加在基板上的感光材料，用于将图样蚀刻到晶圆或板上。然后使用溶剂从底物中化学去除抗蚀剂材料，以显示图样。TEL Lithius单元设计用于精确控制抗蚀剂暴露过程。它有一个闭环机器，可以准确检测过程何时完成，并包括一个高级阶段控制工具，用于在抵抗暴露过程中自动调整到基板的表面。该资产还具有若干优势。它速度非常快，全长晶圆的曝光时间仅为2.6秒。它具有非常低的热影响，因此半导体器件不会受到曝光过程的任何不利影响。它也是为了与广泛的光刻胶材料相容而设计的，因此模型可以被用于开发极端解析度的图样。除了这些特性外，TOKYO ELECTRON Lithius设备效率很高。它提供低功耗要求和高吞吐量,允许在短时间内生产许多设备。它还具有较低的维护成本，因为该系统需要最低限度的维护，同时产生高质量的结果。锂单元是早期生产级半导体器件制造的理想选择。其先进的成像技术和与光刻材料的广泛兼容性使其成为发展和制造尖端半导体器件的最佳选择。
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