二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9275250 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius是在半导体和集成电路（I/C）制造过程中的多个行业中使用的一种专用光阻设备。光致抗蚀剂是指一种光敏材料，用于选择性发展电子元件内的结构，如蚀刻或沉积的金属。光致抗蚀剂是光刻过程中的关键步骤，用于在I/C芯片上创建不同的层和路径。TEL Lithius光刻胶系统使用光掩模，用于定义半导体器件的特性。该单元首先涂覆一层光敏材料，称为光抗蚀剂。然后将光掩模放置在光刻胶的顶部,并使用光来曝光光掩模中定义的区域。裸露的区域使光致抗蚀剂变硬或固化，而未暴露的区域则保持可溶性。光被去除后，显影剂溶液被应用到表面去除了暴露的光致抗蚀剂，从而揭示了基板上的光掩模图样。TOKYO ELECTRON Lithius光刻机中还装有一个湿加工工具，可以用来蚀刻暴露的图样和沉积额外的材料。湿法包括：光敏带、油漆带、抗灰、湿蚀刻、抗蚀带和蚀刻、沉积和涂层。该资产提供了高水平的工艺控制，可以在I/C芯片表面上重复蚀刻和沉积材料。锂光致抗蚀剂模型还提高了制造产量，因为它可以识别潜在的缺陷，并在湿法加工过程中消除它们。设备还使用计算机控制成像来确定最佳蚀刻沉积工艺。这有助于最大限度地减少制造过程中所需的周期数,从而节省宝贵的时间和金钱。综上所述，TEL/TOKYO ELECTRON Lithius photoresists system是I/C制造工艺中使用的一个可靠高效的单元，用于在各自的层上开发和沉积材料。该机具有较高的工艺控制水平、较高的产量、较短的周期时间和改进的缺陷识别。