二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9308715 待售
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ID: 9308715
晶圆大小: 12"
(2) Coater / (3) Developer systems, 12"
Single block for NSR S308
(4) Blocks interfaced:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Wafer transfer robot arms:
Carrier
Process
Stepper interface main
Stepper interface sub
(4) Cassettes FOUP Design
SECSI/II, HSMS and GEM Interface required IUSC
Interface is to NSR S308
(2) Coaters (COT)
(4-8) Resist nozzles with temperature control per coater
One touch filter
For resist and solvent
Mass flow controller
(3) Developers (DEV)
NLD Nozzles with temperature control per cup
(3) PRD Nozzles
Developer
One touch developer filter
Thermo Controller Unit (TCU) Inside track
(2) Adhesion Process Stations (ADH)
(5) Chill Plate Process Stations (CPL)
Transfer Chill Plate (WCPL)
(2) Low Temperature Hot Plate (LHP)
N2 Purge capability
(6) Precision Chilling Hot Plate Process Stations (CPHG)
Wafer Edge Exposure system (WEE)
Interface block
Single pincette wafer transfer with centering guides
For standard wafer arm and interface panel to accommodate
Buffer cassette, 3"-6"
Subcomponents:
Temperature
Humidity controller
(2) Chemical cabinets
AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius提供了一种先进可靠的光刻加工设备，用于开发光刻胶图样。光致抗蚀剂是在光刻工艺中用于在金属、塑料、陶瓷、半导体等材料中产生图样的材料。TEL Lithius提供了一个集成的处理系统，允许在多种材料上开发光刻胶。光致抗蚀剂通过自旋涂层应用于材料表面，然后暴露于各种波长和强度的光中，以便有选择地去除或硬化光致抗蚀剂。产生的蚀刻图样取决于光照和光致抗蚀剂的结晶。光刻胶也可以使用光掩模（photomask）来图样化，这是一种图样化的光传送介质，或是一种可程式化的电脑所产生的图样。这一单元设计用于处理各种材料，包括硅片、玻璃板、聚合物、纸张和纺织品。然后利用各种溶液来开发暴露的基材，这些溶液可以高精度地将暴露的光致抗蚀剂去除或硬化到基材上。其结果是具有精确特征和高表面质量的图样基板。这台机器具有自动对准和独特的薄膜散布机制，可确保光刻胶能准确均匀地应用于基板上。它还采用了一种创新的工艺室工具，具有可调曝光和恒温，以创造一致的结果。车载资产控制还允许设定一系列参数，包括曝光时间、光的波长和快门速度，以创造最有效的结果。该模型还包括一个综合监测设备，以确保可重复的结果。TOKYO ELECTRON Lithius photoresist system is designed to be one of the most reliable and advanced rithography processing system that processes supported reliable and它是专门为允许各种材料的自动化加工而设计的，具有精确和可靠的结果。
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