二手 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9309643 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius光刻设备是一种健壮可靠的光电光刻工具，使用步进重复的光刻涂层方法来精确图样基板。系统从被放置在基板支架上的基板开始，如硅片。紫外线光源用于将基板暴露于预定义的曝光模式。该光源使用一组标线图案，这些标线定义了基板每一层的曝光模式。光源通常设置为365nm的波长。基板暴露在紫外线下后，在基板上散布着一层光致抗蚀剂。光致抗蚀剂用量子点层覆盖基板，对基板的曝光模式有反应。在光抗蚀层就位后，酸蚀刻过程分解量子点层，留下有图样的底物。TEL Lithius单元可以产生0.5微米的分辨率，适用于许多需要以1微米或更精细的分辨率进行精确处理的应用。这使得TOKYO ELECTRON Lithius光致抗蚀剂系统成为微电子、半导体加工、光学介质制造等应用的理想选择。除了光阻系统的标准功能外,Lithius系统还提供自动化和可编程的功能。其中包括自动重复曝光机、可编程抗蚀剂、曝光窗口优化和薄膜厚度监视器。这些特性使得TEL/TOKYO ELECTRON Lithius光刻胶系统比市面上的其他光刻胶系统更高效可靠。最重要的是,TEL Lithius光阻工具是一种功能强大且可靠的工具,可提供精确、高分辨率和可重复的阵列。使用可编程抗蚀剂等特性使得TOKYO ELECTRON Lithius成为微电子等高精度应用的理想选择。